Вакуумные дуговые источники плазмы постоянного тока характеризуются высокой скоростью нанесения покрытий, простотой управления и сравнительно низкой стоимостью оборудования. Дуговой испаритель состоит из катода и соосно расположенным вокруг него цилиндрическим анодом. Напряжение между катодом и анодом не превышает 30 В. Процесс горения дуги протекает в парах материала катода, которые образуются при его эрозионном испарении в быстро и хаотично
перемещающихся катодных пятнах вакуумной дуги, при давлении технологической среды порядка 10-1 Па и ниже. За счет малой площади пятен (10-6….10-3 м) концентрация ток в них достигает 106 А/см2. Происходит быстрый нагрев и испарение
микрообъёма поверхностного слоя катода с последующей ионизацией паров. Процесс сопровождается образованием большого количества капельной фазы, присутствие которой в покрытии не всегда желательно